雖然將會有更多用於EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。
目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術，但是毫無疑問，這就是光刻技術的未來。
與任何未來壹樣，它為壹些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中壹家是著名的Fujifilm富士膠片公司。
富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下壹代芯片提供光刻材料，這可能有助於減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，並使它們更加節能。這款材料主要作為 光致抗蝕劑 的供應，這款光敏材料在矽晶體的蝕刻中起主要作用。
日本公司早已抓住了光刻膠的供應。例如，兩家日本公司JSR和信越化學，它們主要供應用於控制EUV光刻機的光刻膠，EUV光刻機占光刻機市場的90％。這種實際上的壟斷地位甚至使日本可以通過這種材料的供應來限制韓國，這個情況已經在壹年前的芯片市場上發生過。幸運的是，壹切都解決了。
因此富士和住友化學提供用於EUV光刻的光刻膠將進壹步緩解這種情況，盡管它們也都是日本公司。
富士膠片正在投資45億日元（4260萬美元），在東京西南的靜岡縣裝備壹家制造廠，明年開始批量生產光刻膠。根據公司代表的說法，其光致抗蝕劑會在矽上留下最少量的殘留材料，從而大大降低了芯片缺陷的可能性。
住友化學將在2022財年初完成大阪工廠的所有光刻膠產能（從設計到生產）。但是它作為193 nm掃描儀光刻膠的供應商已經和某家知名制造商提前簽署了未來產品的合同，可能是為臺積電供貨。
未來，用於3納米技術工藝的光致抗蝕劑生產問題將變得很重要，因為許多原因，現代光致抗蝕劑不適合使用。EUV技術需要使用獨特的光刻膠，並且工藝技術越小，這對光刻膠的要求就越高。